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公司名稱:上海添時科學儀器有限公司
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本公司提供高真空腔體,客戶可自行為一些實驗搭建真空系統,如等離子濺射,CVD或ALD等實驗,同時也可作為高真空儲存箱。《查看更多》
超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級的顆粒,其特點為霧粒噴出的初速度較小,且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊,含有130W,40KHz的超聲波源,客戶可自行搭建超聲霧化制膜設備。《查看更多》
噴霧熱解制膜法,是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上,然后在基底上得到想得到的物質結構。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史。現在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設備,它可以精確控制溶液化學計量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數。采用步進電機和微處理器來控制容積泵來精確輸送溶劑。一個超聲波霧化器《查看更多》
EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理,結合先進的頻率測量技術,進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。根據實時速率可以輸出PWM模擬量,作為膜厚傳感器使用,與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制。《查看更多》
VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。《查看更多》
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。《查看更多》
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發管式爐,專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11“OD,爐管內載樣盤可放置3“的圓形或2“x2“的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達20?C/S。溫控系統為PID30段程序化控制,控溫精度為+/-1?C。儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導出《查看更多》
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜,如Ti,Al和Au等,也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究,這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設備。《查看更多》
GSL-1100X-15E是一款小型真空鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些輕金屬,如Al.Mg,和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理,Z大可處理的樣品直徑為50mm.。《查看更多》
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),基片Z大尺寸2英寸,加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材和放置樣品的直徑是50mm.旋轉樣品臺,可以依次在同一樣品上涂覆三種材料,金靶,銀,銅,它可以與真空泵,不銹鋼波紋管KFD25快速卸裝卡箍相連用.《查看更多》
MSK-AFA-III是一款帶有自動烘干功能的小型涂覆機,通過勻速地推動精密制膜器,已達到平滑和均勻的涂覆效果。儀器采用真空吸附來固定襯底,使得涂覆過程中襯底不會起褶,從而使得涂覆更加順暢。涂覆過后,儀器上蓋可對樣品進行加熱烘干,Z高溫度可以達到200℃,控溫精度為+/-1°C。此款設備特別適合于固態電解質和鋰電池極片的制備。《查看更多》
可調制膜器這是一款獨特的濕法制膜工具,可通過千分尺調節制膜厚度。操作者可通過千分尺來調節刮刀與所涂覆平面之間的間隙,此工具特別適合實驗室制作電池電極,陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜。此款可調制膜器的涂覆寬度可調節。《查看更多》
可調制膜器-這是一款獨特的濕法制膜工具,可通過千分尺調節制膜厚度。操作者可通過千分尺來調節刮刀與所涂覆平面之間的間隙,此工具特別適合實驗室制作電池電極,陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜。《查看更多》
VTC-50旋轉涂層機能夠瞬間提供可控高速旋轉速度,迅速將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜。由于采用鑄鋁結構,在高轉速下運行平穩。《查看更多》
VTC-200P是一款防腐型真空旋轉涂層機,機體和真空旋轉盤都采用尼龍材料制作,所以儀器具有非常強的抗酸抗堿性,儀器中包括4個真空吸盤,針對于直徑為10mm到6英寸。控制盒與機體分開,以便于實驗操作和實驗室擺放。儀器轉速為500-8000rpm,分為低速旋轉和高速旋轉兩個。同時產品標配中配有無油泵和20ml注液器。《查看更多》
VTC-100PA真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。《查看更多》
PTL-HT高溫提拉涂膜機能夠提供溫度高達1000℃的提拉涂膜環境,廣泛用于各種高溫提拉涂膜研究。例如,陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜。本機能夠適應未來高溫條件下成膜技術的發展需要。《查看更多》
PTL-OV5P全自動5工位恒溫提拉涂膜機用于同一樣件在不同液相中的多層涂膜,Z多可達到5層。本機廣泛用于納米、化工、金屬等材料領域,更是廣大高等院校、研究院所涂膜的理想設備。《查看更多》
PTL-MMB01恒溫提拉涂膜機是專為研究液相外延薄膜而設計的,在恒溫環境中,通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。《查看更多》
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