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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現對原材料的蒸發/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱,Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計(MFC)控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。《查看更多》
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐,石英管直徑100mm,配有一個密封的液體容器用于樣品淬火,溫度從Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相轉變和微結構性能。《查看更多》
VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺,外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空泵。《查看更多》
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統,針對于合成各種納米結構氧化物。此款儀器有三個主要模塊組成:超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。材料制作大概分為三個步驟:前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統是一款非常先進的合成系統,可控制器顆粒尺寸,形態,納米/微粒結構。《查看更多》
GSL-1700X-VTQ是一款通過UL認證的立式真空管式淬火爐,標配有直徑60mm的莫來石管和一個用于樣品淬火的液體密封容器。該設備實驗時可以使樣品從高溫環境下(Z高1700度)快速落入冰水或油中,非常適合用于研究材料相變和微結構性能。《查看更多》
OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm,帶有滑軌法蘭的管式爐,Z高工作溫度為1200℃,此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統而設計。《查看更多》
SP-85KTC是一款較大型高溫感應加熱/熔煉爐系統,配用30KW感應加熱器,8.5英寸(216mm)石英管,鉸鏈式法蘭及閥門,石墨坩堝、石墨毯、氧化鋁保溫毯,16L/min循環冷水機,真空泵和移動爐架。針對于生長晶體,金屬熔煉和各種材料的熱處理的實驗幫手。儀器Z高溫度可以達到2000℃(使用時石英管內需通入保護性氣體)。《查看更多》
KSL-1200X-AC-5S是一款氣氛箱式爐,爐膛內有5個加熱面,使得爐膛內部的溫場更加均勻。此款設備專門針對材料在惰性氣氛保護的環境下進行熱處理,其Z高處理溫度為1200℃。采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料,并且表面涂有高溫氧化鋁涂層,可提高加熱效率增加溫度均勻性同時也極大地延長爐膛使用壽命。加熱元件采用Kanthal1350℃級摻鉬Fe-Cr-Al電阻絲(為延長其使用壽命,表面涂有氧化鋯涂層《查看更多》
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